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新型大平台半导体检查金相显微镜XJ-59C-1，采用了全新设计的无限远校正光学系统、长工作距 明暗场物镜、半复消色差技术，多层宽带镀膜技术，长寿命LED光源。主要用于半导体芯片、晶圆、LCD 行业、粒子爆破检查等材料表面各种检验需要。显微镜具有用于明场、暗场、简易偏光、微分干涉观察等功能。放大倍数50-1000X。
产品特点：
1、所有光学部件均经过特殊处理并镀有特殊膜层
2、8英寸大平台半导体检查显微镜，其微分干涉效果可与进口品牌相媲美
3、采用无限远半复消长距明暗场物镜及视场高眼点大视野目镜
4、各种观察方法下都能得到清晰锐利与高对比度的显微图像
5、采用了防霉处理，有效保护了镜头，延长了仪器的使用寿命。
6、多种高度功能化的附件，能满足半导体检查各种场景需要。
7、两路光路自由切换输出，一路用于观察，一路连接摄像装置。
产品应用：
1、半导体芯片、晶圆、LCD 行业、粒子爆破检查。2、观察材料表面的某些特性，3、分析金属、矿相内部结构组织。
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型号 |
配置 |
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光学系统 |
无限远色差校正光学系统 |
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放大倍数 |
50 倍-1000 倍 |
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观 察 筒 |
无限远铰链三通观察筒，瞳距调节：50mm~76mm，分光比 100：0 |
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目 镜 |
高眼点大视野目镜 SWH10X-H/25mm，视度可调 |
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物 镜 |
无限远半复消长距明暗场物镜 45MM 可见光金相物镜 5X NA0.15 WD14.8mm |
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无限远半复消长距明暗场物镜 45MM 可见光金相物镜 10X NA0.30 WD8.5mm |
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无限远半复消长距明暗场物镜 45MM 可见光金相物镜 20X NA0.45 WD11.9mm |
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无限远半复消长距明暗场物镜 45MM 可见光金相物镜 50X NA0.75 WD3.0mm |
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无限远半复消长距明暗场物镜 45MM 可见光金相物镜 100X NA0.90 WD1.0mm. |
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物镜转换器 |
5 孔明暗场物镜转换器 (带 DIC 插槽) |
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机 架 上光源 |
反射用机架, 低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程 35mm,微调精度 0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置 和随机上限位装置。 内置 100-240V 宽电压系统 |
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载 物 台 |
8 英寸载物台，平台面积 525*330mm，移动行程：210mmX210mm 机械平台，X、Y 方向同轴调节；含快速移动装置 晶圆载物台：底盘尺寸 200*200mm，兼容 4/6/8 寸晶圆片 |
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聚 光 镜 |
摇出式消色差聚光镜 (N.A.0.9) |
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反射照明器 |
明暗场反射照明器，带可变孔径光阑，视场光阑，中心可调，带滤色片插槽，带起偏镜/检偏镜 起偏镜插板，360°旋转式检偏镜插板 |
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灯 室 |
10W 可调 LED 灯室，透、反射通用，预定中心 |
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摄像接口 |
摄影摄像附件：0.65X，C 型接口，可调焦 |
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型号 |
参数 |
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摄像接口 |
0.5X、1X |
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摄像头 |
630万-1200万像素 （含二维测量功能） |
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干涉片 |
诺曼尔斯基微分干涉片 |