看光刻胶光致抗蚀剂残留物用荧光显微镜，光致抗蚀剂残留物是指在后端线蚀刻中，未被完全去除或未被有效处理的抗蚀剂。这些残留物可能对后续工艺产生不良影响，如腐蚀、沾污等。因而在工艺完成后，需要选择性去除光刻胶并清洁表面，确保表面无残留物和颗粒。光解型光刻胶是一种将化学荧光染料作为光敏剂的光刻胶，所以检查光致抗蚀剂残留物要用荧光显微镜。
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